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用于芯片实验室应用的激光诱导石墨烯湿转移技术
出处:液晶太赫兹乐园  录入日期:2024-10-28  点击数:476

  由于其简单且经济高效的制造工艺,激光诱导石墨烯(LIG)为各种环境下有趣的电子应用提供了可能性,包括片上实验室场景。这种有吸引力的材料可以在多种有机基材上生产,但最常见的是聚酰亚胺片材,其通用性通常不如其他塑料基材。此外,它们对多种波长的不可见光不透明,限制了它们在需要完全透明材料的实验中的适用性。因此本文提出了一种新的廉价转移方案,该方案利用热塑性基材在溶剂中的部分溶解性,使它们渗透到LIG中,将其从聚酰亚胺上剥离,并进行了优化,以最大限度地减少转移的LIG(t-LIG)薄层电阻。
  LIG是利用CO2激光烧蚀PI片而产生的。PI被放置在激光切割台上,并在拐角处添加了一些重量,以在激光切割过程中保持其平坦和清晰。功率和速度分别设置为5W和5cm/s。然后在乙醇中清洁生产的LIG电极,以去除任何灰尘或石墨烯微薄片。溶剂从电极蒸发后,将容纳电极的塑料基板喷上溶剂,然后将PI与其接触。然后,对两个基板进行加压和加热。15分钟后,温度和压力迅速降低,PI从塑料基材上剥离(图1)。并使用乙醇作为溶剂优化了PMMA基材转移。压力和温度设置为50 bar和70 °C。   


QQ截图20241028110759.jpg



  图1. a)LIG的转移技术。通过CO2激光产生LIG后,将溶剂喷涂在PI上。然后将PI与塑料基板接触进行转移。接下来,增加压力和温度。15分钟后,PI即可剥离,LIG完全转移到塑料基板上。b)顶部是在PI上的LIG。下面是转移到PMMA上的LIG。
  在LIG在PI上生成并转移到PMMA上,使用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)对其进行分析。从图2可以清楚地看出,转移过程后LIG的外观明显不同。一旦由PI激光产生,LIG就会出现分布在几个焦平面上的羊毛状和完整的丝状生长。然而,一旦应用转移程序,材料就会发生巨大变化,变得片状且更加致密。这一证据可以通过转移过程反转塑料基板上的LIG层并暴露划线PI上的LIG先前背面来解释。   


QQ截图20241028110810.jpg



  图2.a)在PI上的LIG和 b)转移后在PMMA上LIG的SEM图像。
  使用相同的EC电势窗口,HOPG表现出比标准LIG和t-LIG更低的电流密度,如图3所示。这两个在500 mV左右表现出两个还原-氧化小峰,与一些氧化过程合理相关,而在t-LIG情况下这些氧化过程大大降低。此外,在这种情况下,电流密度几乎减半,这可能是由于已经证明的薄层电阻所致。此外,析氧反应的EC电势(OER,HOPG为1000 mV)向较低电势移动。分析表明,与标准相比,t-LIG的反应性有所降低,尽管代价是材料电阻率升高。   


QQ截图20241028110818.jpg




  图3. HOPG(黑线)、PI(绿线)上的LIG(红线)和PMMA(红线)上的转移LIG的循环伏安法。我们为每个CV添加了偏移量,以便在同一图像中绘制所有伏安图,而无需任何叠加。将数据乘以适当的系数以突出伏安图中的细节。

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